Свойства плазменных структур в электродном свч разряде пониженного давления Ю. А. Лебедев, М. В. Мокеев, А. В. Татаринов



Скачать 22.39 Kb.
Дата26.10.2016
Размер22.39 Kb.

XXX Звенигородская конференция по физике плазмы и УТС, 24 – 28 февраля 2003 г.

Свойства плазменных структур в электродном СВЧ разряде пониженного давления

Ю.А. Лебедев, М.В. Мокеев, А.В. Татаринов


Институт нефтехимического синтеза им. А.В.Топчиева РАН, Москва, Россия,
e-mail: lebedev@ips.ac.ru

Электродными СВЧ разрядами здесь называются разряды, возникающие около подводящего энергию электрода в случае, когда характерные размеры плазменной области меньше размеров разрядной камеры. Это является важным отличием от обычных разрядов, ограниченных стенками и определяет особенности, как электродинамики разряда, так и свойства плазмы и ведет к ее самоорганизации. Разряды в молекулярных газах имеют неоднородную структуру с резкой внешней границей и тонким ярким слоем плазмы, окружающем возбуждающий плазму электрод-антенну. Наблюдается также слабое увеличение интенсивности излучения плазмы на ее периферии. Разряд в аргоне представляет собой нитевидную структуру.

Исследованию разрядов посвящен ряд работ [1-10], однако физические процессы, происходящие в разряде не ясны. Некоторые результаты по использованию электродного разряда для осаждения алмазов и нанесения CNx-покрытий представлены в [3,4].

Одной из важных черт таких разрядов является отсутствие эрозии электродов в отличие от электродных разрядов при более низких частотах [2,3]. Это связано с отсутствием распыления электрода ионами, ускоренными в приэлектродном слое.

В докладе дан обзор параметров разряда. На основе имеющихся экспериментальных и теоретических результатов структура электродного разряда в молекулярных газах может быть описана следующим образом.

Тонкий плазменный слой вблизи поверхности электрода-антенны является самостоятельным разрядом. Он характеризуется большим удельным энерговкладом, высокой (сверхкритической) плотностью, высокой интенсивностью излучения плазмы. Эта область окружена шарообразной областью несамостоятельного разряда, в которой плотность плазмы может быть меньше критической. Резкая внешняя граница разряда обеспечивается присутствием двойного электрического слоя. Светящаяся область разряда окружена темной областью послесвечения, где концентрация электронов на порядок меньше концентрации в активной области разряда.



Работа частично поддержана РФФИ (грант 02-02-16021).
Литература.

  1. Бардош Л., Лебедев Ю.А. ЖТФ, 1998, 68, 29.

  2. Бардош Л., Лебедев Ю.А. Физика плазмы. 2000, 24, 956

  3. Bardos L, Barankova H., Lebedev Yu.A., Nyberg T., Berg S. Diamond and Related Materials, 1997, 6, 224.

  4. Bardos L., Barankova H., Lebedev Yu.A. 42-nd Ann. Conf. of Soc. of Vac. Coaters, Chicago, IL, April 17-22, Proc. SVC TC(1999), paper E-7

  5. Лебедев Ю. А., Мокеев М. В., Татаринов А. В. Физика плазмы. 2000, 26, 293.

  6. Лебедев Ю. А., Мокеев М. В. Теплофизика высоких температур. 2000, 38, 381.

  7. Бардос Л., Лебедев Ю.А. Теплофизика высоких температур. 2000, 38, 552.

  8. Лебедев Ю. А., Мокеев М. В. Физика плазмы. 2001, 27, 443.

  9. Лебедев Ю.А., Мокеев М.В. ЖТФ, 2002, 72, 139.

  10. Lebedev Yu,A,. Tatarinov A.V., Epstein I.L. Plasma Sources Sci&Technol., 2002, 11, 146.


База данных защищена авторским правом ©bezogr.ru 2016
обратиться к администрации

    Главная страница